國產芯片實現“趕超”的背后，離不開超純水設備

　　眾所周知，中國是全世界芯片進口量非常大的國家，但其中有超過70%的需求都是中低端芯片。雖然美國對華為進行了芯片斷供，限制了高端芯片的使用，但如果中國能夠實現中低端芯片的自由，也能很大程度降低對美芯片的依賴，被“卡脖”風險也會下降。

　　有消息傳出，14nm芯片封鎖將會被打破!據業內人士透露，100%純正的14nm國產芯片將在2023年實現量產。我國將在明年實現14nm純國產芯片的消息一經傳出，瞬間在西方科技界引起了廣泛的關注與討論，美國科學院院士更是發出無奈的感慨：中國學者都不睡覺嗎?居然僅用了兩三年的時間，就走完了西方科學家十余年才走完的路，且在某些細分領域實現了“趕超”。

　　美國院士發出這樣的感慨也不難理解，畢竟芯片制造是一項龐大的項目工程，工序十分繁瑣，且需要大量設備、化學材料的支撐，我國實現了14nm芯片的量產，標志著我國半導體產業的整體水平已經達到了14nm，與西方雖然存在著技術差距，但這種差距可以通過“堆疊”的方式進一步縮小。

　　縮小差距的設備除了芯片生產的常用設備外，還有一個十分重要，它是芯片用水的生產者-超純水設備。超純水設備可生產出芯片生產過程中的清洗用水超純水，保證了芯片的良品率。采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經濟合理等特點。

　　萊特萊德經過多年實踐，同時結合膜分離技術，采用反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合的工藝來制取超純水，該工藝與傳統工藝相比具有運行成本低的優點(離子交換器的再生周期大大延長)，運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。