半導體行業中的超純水制備工藝

　　超純水通常指的是電阻率能夠達到18MΩ·cm的水，是既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。

　　半導體行業中的超純水，又名UP水，主要是半導體原材料生產加工、檢測和半導體器件的制備用水。電子元器件對超純水使用水質要求高。市場環境變化使得元器件尺寸縮小與精細度上升，使得超純水水質與水量的技術指標不斷提升。

　　超純水制備主要包括以下三個階段，即初步吸附過濾階段、反滲透凈化階段和樹脂離子交換階段。其中，離子交換即是將水中的正離子與離子交換樹脂中的H+離子交換，水中的負離子與離子交換樹脂中的OH-離子交換，從而達到純化水的目的。具體說來主要有以下步驟：

　　1.原水：可用自來水或普通蒸餾水或普通去離子水作原水。

　　2.預處理系統：原水箱、原水泵、殺菌劑、石英砂過濾器、活性炭過濾器、換熱器、阻垢劑系統。

　　3.雙級反滲透系統：保安過濾器、高壓泵、反滲透系統。反滲透膜可濾除95%以上的電解質和大分子化合物，包括膠體微粒和病毒等。由于絕大多數離子的去除，使離子交換柱的使用壽命大大延長。

　　4.EDI系統：EDI的作用就是通過除去電解質(包括弱電解質)的過程，將水的電阻率從0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm。

　　5.拋光樹脂：無化學析出的核子級樹脂，去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質，使水質達到18MΩ·cm以上。

　　6.終端超濾：能有效地去除水中的微粒、膠體、細菌、熱源和有機物力。是整套系統最后的防火墻，確保產出的高純水不受二次污染。

　　萊特萊德超純水設備采用靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除同時還能連續、穩定地生產高純度的超純水。超純水設備主要應用領域：晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍涂裝、試劑稀釋、氟化工等領域多有應用。

　　轉載時請注明文章來源“萊特萊德”，否則視為侵權，感謝配合。

　　編輯：柒柒   技術：米