超純水去硼是半導體行業發展的關鍵

　　制造半導體需要經過8個主要步驟。超純水主要用于半導體制造過程中的某些步驟前后的清洗。比如，蝕刻后，切割晶片，然后用超純水清洗殘留物。另外，離子注入后，可以清除殘留離子。另外，也可以用來對晶片進行拋光和切割。?

　　超純水是在半導體生產過程中使用的一種清潔劑。所以，使用超純水對半導體生產有什么影響呢?采用納米超精細工藝加工半導體時，如果在不同工藝過程中留有一小粒粒子，將引起誤差。所以，在不同的工藝中，用超純水清洗晶片，能夠保證潔凈度，并提高半導體的生產率(輸出)。

　　伴隨著半導體工業的發展，對潔凈水的電導率、離子含量、TOC、do、微粒的要求也越來越高。在很多方面，超純水對半導體提出了很高的要求，所以在半導體工業中，超純水和其他行業是不一樣的。在超純水領域，半導體工業對水質要求非常嚴格。當前，國內普遍采用的超純水標準(GB/T11446.1-2013)和國家標準“電子級水”。

　　硼是半導體生產過程中的一種p型雜質。過多將導致n型硅倒轉，從而影響電子和空穴的濃度。在超純水工業中，對硼的去除應該給予足夠的重視。在硼離子美標中，e1.3要求小于0.05。當硼離子含量達到較低的指標時，半導體性能必然得到改善。

　　Huncotte系統選用核級樹脂，通過獨特的目標離子交換樹脂，能有效地控制出水中硼離子含量。用IPC-MS法測定硼離子含量，對硼離子流出物的分析≤0.005μG/L，遠遠低于美標E1.3中所要求的硼離子含量。