半導體生產中所需的超純水設備又是如何清洗保養的？

　　隨著人工智能、物聯網等新興市場的不斷發展，全球半導體行業市場規模整體呈現增長趨勢。半導體作為一種在常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的一類材料，在集成電路、消費電子、通信系統、光伏發電、照明應用等領域中應用良多。

　　這樣的半導體在生產中除了一道道工序外，還需要超純水設備的應用來制備清洗用水，在長期應用中許多用戶都有面臨一些問題，例如設備如何保養才能延長壽命，又或者是超純水設備停用應該如何是好?今天我們就來解答一些關于超純水設備如何清洗保養。

　　具體情況如下：

　　1、將專用清洗液與處理后的純水在清洗藥箱內混合。

　　2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至反滲透系統，并排走原水，防止清洗液稀釋。

　　3、保持設備溫度穩定，用清洗泵將清洗液在系統中循環。

　　4、清洗液在設備內浸泡一小時即可，污染較嚴重的反滲透膜可進行更長時間的浸泡清洗。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘，使反滲透膜上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。

　　6、用清水將清洗液沖去。設備沖洗后的清水需要保證PH6.5-7.5之間。

　　以上就是全文。關于半導體生產中應用的超純水設備除了上述的清洗保養問題外，在使用與安裝過程中也都需要很注意，需要嚴格按照規范或者專人指導來操作，這樣才能保障設備的安全性和出水的穩定性。

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　　編輯：柒柒   技術：米