“雙循環(huán)”背景下 超純水設(shè)備提供行業(yè)發(fā)展“芯”動力

　　根據(jù)《中共中央關(guān)于制定國民經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展第十四個五年規(guī)劃和二〇三五年遠(yuǎn)景目標(biāo)的建議》，中國應(yīng)加快建設(shè)以國內(nèi)大循環(huán)為主體、國內(nèi)外雙循環(huán)相互促進(jìn)的新發(fā)展模式，促進(jìn)國家治理體系和治理能力現(xiàn)代化，實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)穩(wěn)定、社會穩(wěn)定和諧，為全面建設(shè)社會主義現(xiàn)代化國家開辟良好的開端。

　　芯片生產(chǎn)所需的硅片在使用前必須徹底清洗。一塊8英寸的硅片可以生產(chǎn)大約100塊芯片，需要2000加侖的超純水才能達(dá)到所需的純度。芯片設(shè)備和材料國際公司估計(jì)，2007年生產(chǎn)了1730萬英寸的硅片，消耗的超純水足以填滿50萬個奧運(yùn)游泳池，這也從另一個方向反映出了芯片行業(yè)對于超純水的需求量巨大。

　　萊特萊德超純水設(shè)備采用反滲透工藝，或是采用反滲透后面再經(jīng)過離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床來制取超純水，確保出水水質(zhì)符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿足芯片行業(yè)的水需求，為行業(yè)提供動力。

　　從發(fā)展前景來看，芯片產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀不言而喻。在“雙循環(huán)”的背景下，國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展并不能完全滿足日益增長的市場需求。未來，隨著優(yōu)惠政策和生產(chǎn)技術(shù)的改進(jìn)，原材料和設(shè)備的自給自足率將繼續(xù)提高。與此同時(shí)，全球芯片產(chǎn)業(yè)將像國內(nèi)轉(zhuǎn)移一樣促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展。我國集成電路產(chǎn)業(yè)前景廣闊，市場規(guī)模不斷擴(kuò)大。