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集成電路中的各部分電子元件和連線精密程度很高，在制造過程中一旦遇到灰塵、固體顆粒、金屬雜質、有機物等物質污染，就很容易形成短路或斷路，導致集成電路損壞并失去原本功能。因此，在清洗集成電路時，就需要用到高純度的超純水作為清洗用水，來規避水中含有的顆粒雜質、金屬離子、有機物、微生物等成分對集成電路造成污染的風險。
EDI超純水設備是生產超純水的優良產品，主要采用了雙級反滲透系統+EDI模塊的處理工藝。雙級反滲透系統可以有效去除水中含有的各類金屬離子、細菌、微生物、有機物、礦物質等元素，還具有良好的抗污染性能，故障率低、運行穩定。EDI模塊能使系統實現帶電荷運行，可以加快離子遷移速度，提高設備的脫鹽率。此外，EDI模塊處理不會有污染物析出，也不會產生酸堿廢液，它的進水為二級反滲透產水，水質較好，脫鹽后濃水水質仍舊優于一級反滲透產水，可回流至一級反滲透產水箱。
EDI超純水設備還采用了智能化程序，操作靈活，節約了人力成本，產水質量可以進行在線監測，運行過程中也不會消耗過多能源。投資EDI超純水設備為集成電路清洗生產需要的超純水，具有生產質量穩定、無污染、能耗低等優勢，性價比高。
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