專用“膜法”核心技術 助力電路產業穩步發展

　　芯片行業具有周期性，近期，基于5G大規模建設等周期性因素，以及18年政府工作報告把集成電路產業發展放在實體經濟發展首位等持續性政策影響，使得芯片行業將迎來快速成長期。就芯片水處理市場而言，首先要關注的是技術要素，技術水平都在提高，不僅2014年開始實施的電子級水國家標準要求提高，而且還增加了鐵、鉛等指標，而即將實施的新電子工業污水國標要求也同樣提高，并增加了新的總鉻指標，在水處理企業中，面臨著技術上的挑戰。

　　目前電子行業超純水設備主要應用于單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線框架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃，顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水，產水水質的電導率<18ΜΩ.cm，而且水處理過程中存在二次污染，出水水質不穩定。

　　萊特萊德采用反滲透技術和EDI裝置相結合的工藝來制備超純水，獨有的靶向離子交換系統，用于對超純水中難處理的硼和其它離子進行定向去除，確保出水硼離子能穩定≤5ppt。能有效地達到國家標準《電子級水》的水質標準，系統集成度高，雙操作系統，可實現自動控制，系統更穩定。

　　萊特萊德擁有多項超純水專用膜核心技術，為用戶提供一種智能、低耗、運行穩定的超純水制備系統。能連續、穩定地生產高純超純水，簡單方便的日常保養和維護，設備耐用，使用壽命長。