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半導體材料清洗用水為何選用超純水設備？

2022-09-30

　　隨著智能化、5G技術、新能源汽車等科技的進步，對于半導體的需求也在逐漸上漲。在我國“十四五”規劃期間，明確了將培育集成電路產業體系、大力推進先進半導體等新興前沿領域創新和產業化作為近期發展重點。

　　半導體材料是在集成電路、消費電子、通信系統、光伏發電等領域進行應用的。半導體材料在應用中會需要一定量的超純水，可用于清洗，該超純水電阻率達到了18兆歐，不含導電介質和金屬離子，可滿足作為半導體清洗用水的需求。

　　萊特萊德超純水設備采用兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，處理后的水質可達到18MΩ.CM以上，符合半導體用水標準。設備采用如今大熱的膜技術，可有效去除水中的導電介質，以及水中不離解的膠體物質、氣體及有機物，設備的出水純度高，無病毒與細菌，不含任何懸浮物、無化學污染，產出的可謂是高品的超純水了。設備還設有在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，在無人值守的狀態下也可平穩運行。

　　綜上，萊特萊德超純水設備滿足了半導體清洗用水需求。并且設備的設計較為緊湊，占地空間小，在出廠前會進行嚴格的檢驗，以確保設備無故障，在日常維護和操作過程種也是非常簡單。總體來說萊特萊德一直專注電子超純水領域，是集研發設計、設備制造、工程施工、運營維護為一體的環保解決方案服務商。

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