“膜法”工藝 為芯片制造提供用水保障

　　芯片斷供事件使華為意識到卡脖子的問題。面對國外持續不斷的壓力，華為不僅研發了5G技術，還走上了自主研發之路。經過近20年的努力，臺積電才獲得今天的地位。要在短時間內實現華為的突破并非易事，但中國的核心必須本地化，構建上下游供應鏈。我們正和時間賽跑。現在不這樣做，將來的時間會更久。

　　芯片是半導體集成電路，可理解為電路小型化、微型化。芯片其實就是一塊高度集成的電路板，也可以稱為IC。比如，電腦的CPU也是芯片。各種集成電路系統有不同的功能。比如視頻編解碼IC就是專門用來處理視頻數據，而音頻編解碼IC就是用來處理聲音。若將CPU與整個計算機系統的心臟相比較，則主板上的芯片就是全身的骨架。對主板而言，芯片組幾乎決定了主板的功能，進而影響整個電腦系統的性能。芯片是主板的靈魂。

　　半導體作為高科技行業，自主研發芯片在許多方面有著較高的要求。其中一個是設備，即設備國產化。但是，在各個過程中，國內能夠工業化、企業化應用的設備很少。生產這種設備需要大量的技術，而且難以在短期內實現。與此同時，半導體產業也需要人才。這是一個耗時較長的問題，無法通過投資立刻得到解決。芯片生產工藝也同樣有嚴格的要求，其中對生產用水也有嚴格的規定，其水質必須達到超純水標準。

　　超純水可分為國標《電子級水》和美標《電子半導體超純水水質標準》。傳統的超純水制取工藝是采用陰陽樹脂交換技術，但其不足之處是，使用一段時間后，樹脂需要經常再生。隨著膜分離技術日趨成熟，萊特萊德采用反滲透+EDI+拋光混床工藝制備超純水，其出水導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業用水需求。不僅解決了生產成本高、除雜不徹底、生產水質不穩定、污染嚴重等問題，又能較好地提高芯片收率。

　　反滲透系統主要除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等。減少水質的離子含量。EDI是一種不需要酸堿再生的新型脫鹽方法，它是一種將離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。有無需再生化學品的再生、運行成本低 、自動化程度很高、連續工作，出水水質好，穩定性好等特點。拋光混床是為高純度的水處理系統中的終端精制器所設計，采用半導體級混床離子交換樹脂，能夠將水中的離子含量降到PPB級別，出水電阻率可達18.2MΩ·CM。

　　萊特萊德憑借多年的工程經驗，根據客戶的原水水質報告、現場的實地情況、對水點的日常需求，為客戶量身定制專屬工業電子超純水系統。萊特萊德憑借多年研發設計實力，在保證出水達標的同時，考量日常使用方便性、耗材更換方便性，真正實現量身定制。