超純水設備出水符合芯片生產用水需求

　　芯片簡稱IC，是指載有集成電路的半導體元件。芯片制造又稱晶圓制造，是在晶圓表面通過物理和化學工藝步驟形成器件，并用金屬線將器件連接起來形成集成電路的過程。芯片的需求主要來自科技的蓬勃發展，電子消費產品芯片的需求不低于汽車行業的需求。芯片的生產過程冗長，對所有的設備技術要求很嚴格，短時間解決芯片短缺問題仍然是一個難題，而如何提高芯片的成品率問題就顯得尤為重要。

　　在芯片生產中，幾乎每一道工序都需要超純水清洗，工件與水直接接觸。一旦水質不達標或水中含有雜質，就會降低設備性能，降低產量。確保超純水的質量是我國自主研發芯片的重要基礎。傳統的超純水生產工藝采用陰離子樹脂交換設備。這種工藝的缺點是樹脂在使用一段時間后會頻繁地再生，增加成本。隨著膜分離技術的不斷成熟，萊特萊德采用反滲透工藝，或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產超純水，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業用水需求。

　　近年來，隨著芯片制造工藝中對設計的需求更精確、更小，對純水水質的要求也越來越嚴格。萊特萊德芯片超純水設備能在一定程度上去除水中的二氧化硅、顆粒、細菌、有機物和微生物，從而達到行業用水要求。此外，超純水設備配備了濃水置換專業技術，有效防止膜系統的微生物污染。通過完善的工藝，提高系統回收率、降低能耗和運行成本，符合芯片生產用水需求。