超純水設(shè)備推動半導體行業(yè)向著高效與環(huán)保道路發(fā)展

　　隨著半導體工業(yè)的迅猛發(fā)展，對超純水的要求和標準也在不斷提升。特別是在制造集成電路時，即使是幾個金屬離子或灰塵顆粒也足以導致整個電路報廢。因此，作為半導體工業(yè)中重要的電子化學試劑之一，超純水的生產(chǎn)制備越來越受到重視。

　　目前，在市場上常見的超純水工藝中，傳統(tǒng)的離子交換工藝逐漸被反滲透工藝所取代。這是因為反滲透工藝無需樹脂再生，能夠?qū)崿F(xiàn)24小時連續(xù)產(chǎn)水，并且在制水過程中不會產(chǎn)生廢酸、廢堿等有害排放物。萊特萊德公司推出的超純水設(shè)備采用了先進的Ryperm技術(shù)反滲透裝置，提升系統(tǒng)的出水水質(zhì)。

　　萊特萊德致力于為用戶提供高品質(zhì)的超純水解決方案，有效解決了傳統(tǒng)超純水生產(chǎn)過程中能耗大、步驟繁瑣、成本高、產(chǎn)品純度低以及質(zhì)量不穩(wěn)定等問題。通過采用簡潔高效的生產(chǎn)工藝流程，實現(xiàn)了連續(xù)大規(guī)模生產(chǎn)，同時保證了處理效率高、配置合理有效，并具備顯著的經(jīng)濟性和環(huán)保優(yōu)勢。

　　工藝流程：

　　利用超濾膜去除水中的懸浮物及部分有機物，反滲透系統(tǒng)去除大部分溶解性固體，提高水質(zhì)純凈度; TOC裝置用于去除水中殘留的有機碳化合物;EDI系統(tǒng)深度脫鹽并去除微量離子;氮封系統(tǒng)通過充入氮氣防止空氣中的污染物進入系統(tǒng);脫氣系統(tǒng)排除水中可能存在的氣體雜質(zhì);靶向離子交換可以針對難以去除的特定離子如硼進行定向吸附;終端過濾確保出水無任何微粒污染。

　　其中，萊特萊德特別設(shè)計了獨特的靶向離子交換系統(tǒng)，專門針對超純水中難以處理的硼離子等進行高效去除，保證出水中的硼離子濃度穩(wěn)定低于5ppt。整套系統(tǒng)集成度非常高，配備了雙操作系統(tǒng)以增強穩(wěn)定性。這使得即使是在長時間運行條件下也能保持高純度超純水的持續(xù)穩(wěn)定產(chǎn)出，而無需因樹脂再生等原因停機維護。此外，設(shè)備日常保養(yǎng)簡便易行，具有較長的使用壽命。

　　總之，萊特萊德憑借其創(chuàng)新的技術(shù)方案和卓越的產(chǎn)品性能，在推動半導體及相關(guān)領(lǐng)域向著更加高效、綠色的方向發(fā)展方面發(fā)揮著重要作用。

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　　編輯：虞美人   技術(shù)：加菲