什么樣的超純水制備工藝符合芯片用水需求呢？

　　如今，手機的更新換代也是飛快，芯片的發展也是迅猛，這樣一來無形中加大了芯片的市場需求。為了更好地為手機提供高品質芯片，只有不斷提高芯片生產產能以及生產品質方可。

　　據了解，在芯片生產過程中需要進行清洗，而使用的水質并非普通凈水，而是超純水。這種超純水電阻率達到18MΩ*cm(25℃)，幾乎不含雜質，更沒有細菌、病毒等有機物以及礦物質微量元素，是去除原水中氧和氫以外所有原子的一種水質。非常符合芯片清洗用水需求，如今廣泛應用于芯片制造業中。

　　而制成這種水源的超純水設備被人們廣泛關注。如今市場中常見的超純水設備，核心工藝為“反滲透工藝+EDI+精處理混床工藝”從而制備超純水。這一設備工藝不僅產水量增加，出水品質也有著一定的保障，滿足了芯片行業用水需求。

　　超純水設備工藝分析如下：

　　1、反滲透(RO)工藝，是一種利用反向滲透原理，來有效除去進水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等，從而實現降低水離子含量的工藝。

　　2、EDI工藝，對比傳統工藝無需酸堿再生，降低了運行成本，可實現連續工作，出水水質好且穩定。

　　3、精處理混床工藝，是專門用于高純度的水處理系統中的終端精制器，能夠將水中的離子含量降到PPB級別。

　　綜上，高品質的超純水設備的應用是生產良好的質量芯片的保障。并且應用以上工藝的超純水設備與其它同類相比，具有更高的性價比和可靠性，具有廣闊的應用前景。