如何產出高質量的半導體超純水？

　　超純水的產生是應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術所生產出來一種水。這種水不僅可以應用在電子行業，在半導體行業中也是應用較多。

　　在半導體加工過程中，需要大量的超純水，傳統的超純水制備方法主要有蒸餾法和離子交換法。隨著半導體工業的不斷發展，對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴格，傳統的制備方法如今逐漸不在適用該產業的生產需求了。

　　由于半導體用超純水對多項指標的高要求，所以在半導體行業，超純水不同于其他行業對水的要求，半導體行業對超純水有極為嚴格的水質要求。

　　半導體行業超純水質量會有哪些要求?

　　半導體所用的超純水需要達到的水質標準為：我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)，我國電子工業部高純水水質試行標準，國內外大規模集成電路水質標準等。

　　如何產出高質量的半導體超純水?

　　建議采用“兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝”這類的超純水設備，可保證處理后的水電阻和電電阻達到18MΩ.CM以上。該出了采用以上工藝外，結構設計也需要相對緊湊，這樣一來占地面積小可為企業節省大量建設空間。這種半導體超純水設備出廠前都是需進行壓力測驗的，所以出現故障概率小。還可以還配備了反滲透預脫鹽技術，再次從根本上確保了水處理設備的出水質量。

　　以上，就是關于半導體行業所需超純水相關問題的全部介紹了。感謝您的閱讀，我們下期不見不散!